大熹-SEKISUI(日本積水化學)-plasma-常壓電漿來源概要(可用於基板洗淨,表面改質,去除膠渣(desmear),灰化(ashing) 等)

常壓電漿來源概要
　

DIRECT型電漿來源

→將基材通過放電空間，直接進行電漿處理方法
有利於進行高速處理

基板洗浄(晶片搭載前的基板)，表面改質，除膠渣(desmear)等.

REMOTE型電漿來源

→從放電空間將活性種進行吹附的電漿處理方法
有利於降低基材的電氣損傷

可用於基板洗浄(晶片搭載後的基板)，灰化(ashing) 等.

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